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耐候性測(cè)試標(biāo)準(zhǔn)通常包含關(guān)于試樣重新放置的指導(dǎo)要求。這是指在測(cè)試過(guò)程中，將試樣移動(dòng)到測(cè)試箱內(nèi)不同位置的操作。Q-Lab認(rèn)為，在進(jìn)行耐候性測(cè)試時(shí)，重新放置試樣是一項(xiàng)最佳實(shí)踐，無(wú)論試驗(yàn)箱的均勻性如何或設(shè)備類(lèi)型如何，都能確保獲得可重復(fù)性的結(jié)果。

標(biāo)準(zhǔn)中的重新放置要求：根據(jù)測(cè)試標(biāo)準(zhǔn)的不同，重新放置試樣可能是一項(xiàng)強(qiáng)制性要求、推薦實(shí)踐，或者介于兩者之間——僅當(dāng)某些均勻性條件無(wú)法滿(mǎn)足時(shí)，重新放置才是強(qiáng)制性的。隨著時(shí)間的推移，主要的耐光性和耐候性測(cè)試標(biāo)準(zhǔn)對(duì)試樣重新放置的態(tài)度越來(lái)越認(rèn)可。

• 1984年發(fā)布的ISO 105 B02《色牢度 人工光：氙弧褪色燈測(cè)試》中，有一條非強(qiáng)制性注釋建議進(jìn)行試樣重新放置。

• 1997年發(fā)布、2000年修訂的ASTM G151《使用實(shí)驗(yàn)室光源的加速測(cè)試設(shè)備中非金屬材料的暴露標(biāo)準(zhǔn)實(shí)踐》規(guī)定，當(dāng)輻照度均勻性低于90%時(shí)必須重新放置試樣，并在所有情況下推薦進(jìn)行重新放置。

• 2013年發(fā)布的ASTM D7869《運(yùn)輸涂料增強(qiáng)光照和水暴露的氙弧暴露測(cè)試標(biāo)準(zhǔn)實(shí)踐》始終要求重新放置試樣。 Q-Lab為何倡導(dǎo)重新放置試樣？Q-Lab對(duì)重新放置試樣的倡導(dǎo)有數(shù)據(jù)支持。

在一項(xiàng)循環(huán)比對(duì)研究中（記錄于LX-5024《旋轉(zhuǎn)式與靜態(tài)氙燈測(cè)試儀對(duì)比》），研究人員收集了數(shù)據(jù)以證明有無(wú)重新放置試樣時(shí)測(cè)試均勻性的差異。該研究的表6（經(jīng)修改后轉(zhuǎn)載如下）表明，重新放置試樣后，測(cè)試結(jié)果的均勻性有顯著提升。 測(cè)試標(biāo)準(zhǔn)中的表述往往不適當(dāng)?shù)鼐劢褂谳椪斩染鶆蛐?。重新放置試樣?duì)于改善測(cè)試儀所有耐候因素（包括噴水、濕度和溫度）的傳遞至關(guān)重要。因此，為確保最佳的測(cè)試可重復(fù)性，Q-Lab強(qiáng)烈支持在所有耐光性和耐候性測(cè)試中重新放置試樣。